非硅基芯片、微電子元件（是指在芯片上實(shí)現(xiàn)的電阻、電容、晶體管等）。還有一種說(shuō)法是，微電子元件是指芯片中的線寬在一微米上下的器件，更小的稱(chēng)作納米器件。

威固特專(zhuān)業(yè)做超聲波清洗機(jī)，在清洗芯片、微電子元件等產(chǎn)品上積累的經(jīng)驗(yàn)而言，得出不管是清洗前或者清洗中以及清洗完畢這個(gè)清洗工序，都需注重。因不管是哪個(gè)工序都得保證產(chǎn)品最后清洗的成品質(zhì)量。

威固特一臺(tái)型號(hào)為VGT-12162FH半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)，為12個(gè)功能槽，配置了循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)、自動(dòng)恒溫系統(tǒng)、拋動(dòng)系統(tǒng)、電控裝置等組成。

VGT-12162FH半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)在清洗產(chǎn)品的前、中期配置的清洗系統(tǒng)為超聲水劑清洗槽、市水漂洗槽、純水噴淋漂洗槽、純水漂洗槽等都有各自的特點(diǎn)展示：

其一，每槽設(shè)四面溢流口，各槽均為獨(dú)立循環(huán)槽，由循環(huán)泵將洗劑由儲(chǔ)液箱抽出經(jīng)過(guò)濾后再運(yùn)回清洗槽，即字母槽循環(huán)。

其二，設(shè)置獨(dú)立循環(huán)系統(tǒng)。

其三，各槽底部設(shè)排液閥且互相串聯(lián)至洗劑排管（與純水總排管分開(kāi)）。

其四，清潔溶液經(jīng)循環(huán)泵重新抽入清洗槽，實(shí)現(xiàn)自我循環(huán)，提高溶液的利用率，而溢流液排放到總排管。

其五，設(shè)市水進(jìn)口，可分別接至各洗槽及儲(chǔ)液箱。

其六，槽體左右側(cè)各設(shè)一排噴桿，每根噴桿均布4-5個(gè)噴嘴，噴淋泵由儲(chǔ)液槽中抽出液體經(jīng)過(guò)濾后由噴嘴噴出，傾斜向下噴淋，且噴嘴為扇形，噴灑范圍更廣。

其七，槽底部設(shè)常開(kāi)閥。

其八，設(shè)純水進(jìn)口，設(shè)浮球閥控制自動(dòng)補(bǔ)充純水。

VGT-12162FH半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)在清洗最后的烘干程序結(jié)構(gòu)：

其一，槽面設(shè)齒狀溢流結(jié)構(gòu)，純水由純水預(yù)熱箱進(jìn)入，由槽體底部接入清洗槽內(nèi)。槽外貼保溫棉厚10mm。

其二，外貼發(fā)熱板2KW，槽體設(shè)“OMRON”數(shù)顯溫控系統(tǒng)，檢測(cè)槽內(nèi)工作溫度，溫控范圍：常溫～100℃。

其三，高精度表面清洗除前面需要有合理的清洗工藝和配置外，更需要良好的脫水效果。工件表面如果有任何垢點(diǎn)或積水點(diǎn)，最后都將導(dǎo)致清洗前期的失敗。高純水高溫慢拉脫水是芯片或者玻璃產(chǎn)品等高要求的是高精度清洗少不了的一道工序，有效的形成均勻的熱純水膜，迅速散失表面水份，實(shí)現(xiàn)表面高清潔度目的，為后續(xù)干燥奠定有利基礎(chǔ)。

其四，烘干槽外貼保溫棉，熱風(fēng)從烘干槽四周進(jìn)入，底部回風(fēng)。

其五，出風(fēng)口設(shè)有高溫高效過(guò)濾器及空氣加熱管。

其六，槽體上部設(shè)活動(dòng)缸蓋。

其七，6KW空氣加熱管置于加熱包內(nèi)。

其八，在烘干槽正上方的機(jī)架頂部設(shè)置一個(gè)FFU層流送風(fēng)單元。由上往下吹形成的負(fù)壓風(fēng)，致使工件加熱后附著物不易粘附。

其九，因慢拉槽液溫較高，如無(wú)頂部FFU的壓風(fēng)，大量的水汽將往上騰，水汽會(huì)再次附著于提出的產(chǎn)品上，安裝FFU后，可在上方形成局部正壓，大部分水汽從缸面的抽氣口抽走。

其十，拋動(dòng)電機(jī)通過(guò)偏心輪帶動(dòng)連桿上下運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)拋動(dòng)架帶動(dòng)洗籃在清洗槽內(nèi)作上下運(yùn)動(dòng)。運(yùn)行穩(wěn)定性好，噪聲小。

其十一，清洗過(guò)程中工件做均勻地拋動(dòng)，可以增加工件與液體的摩擦，有利于表面污垢迅速脫落，提高清洗效果。